实亿国际碳化硅mos管工作频率是多少,SiC碳化硅-KIA MOS管
实亿国际信息来源:本站 日期:2025-07-24
碳化硅MOSFET(SiC MOSFET)的工作频率可达1MHz甚至更高,高频特性显著优于传统器件。
传统MOSFET与碳化硅MOSFET的频率对比
传统MOSFET
工作频率:约60kHz
限制因素:受材料特性与寄生参数影响,难以突破MHz级别。
碳化硅MOSFET
工作频率:可达1MHz甚至更高(如国产1200V型号内阻13mmΩ的产品可稳定运行在1MHz以上)。
优势:高频特性使其在电源系统中可显著减小电容、电感体积,降低成本并实现小型化设计。
高频特性应用
1.效率提升:高频开关可减少导通损耗,例如在100kHz时效率仍超95%,远超传统硅基器件。
2.散热优化:高频开关降低导通时间,减少对散热片依赖,延长设备寿命。
3.场景适配:新能源汽车充电桩、轨道交通等需高频响应的电力电子系统。对比IGBT(工作频率通常低于40kHz),碳化硅MOSFET更适合高频开关场景。
碳化硅是第三代半导体产业发展的重要基础材料,碳化硅功率器件以其优异的耐高压、耐高温、低损耗等性能,能够有效满足电力电子系统的高效率、小型化和轻量化要求。
碳化硅MOSFET具有高频高效,高耐压,高可靠性。可以实现节能降耗,小体积,低重量,高功率密度等特性,在新能源汽车、光伏发电、轨道交通、智能电网等领域具有明显优势
与Si 材料相比,碳化硅材料较高的热导率决定了其高电流密度的特性,较高的禁带宽度又决定了SiC 器件的高击穿场强和高工作温度。尤其在SiC MOSFET 的开发与应用方面,与相同功率等级的Si MOSFET 相比,SiC MOSFET 导通电阻、开关损耗大幅降低,适用于更高的工作频率,另由于其高温工作特性,大大提高了高温稳定性。
碳化硅MOSFET结构
碳化硅MOSFET工作原理
当栅极施加正电压时,形成电场,使得通道中的载流子(电子或空穴)移动,导致源极和漏极之间形成导电路径。通过调节栅极电压,可以控制通道中的载流子浓度,从而控制MOSFET的导通程度。
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